掩模光刻

• 光刻工藝中，什么是Binary mask和Phase Shift Mask？一次講明白！

  在半導(dǎo)體光刻技術(shù)中，光掩模（Photo mask）是芯片制造的核心工具之一，其作用類似于傳統(tǒng)照相的底片，通過(guò)控制光線透射或阻擋，將電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片制程不斷微縮至納米級(jí)，掩模技術(shù)也在持續(xù)演進(jìn)。其中，

  國(guó)芯制造

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  23小時(shí)前

  光刻技術(shù) 光掩膜版

  
• 全球半導(dǎo)體光刻掩模版及配套材料供應(yīng)商整理（73家）

  網(wǎng)上做光刻機(jī)科普的文章一大堆，光刻膠的介紹相對(duì)較少，而掩模版相關(guān)的資料就更少了在這里，我根據(jù)我一點(diǎn)有限的知識(shí)，也給大家簡(jiǎn)單講解一下：客觀來(lái)說(shuō)，單憑光刻掩模版幾個(gè)字是無(wú)法討論和判斷技術(shù)難度的。掩模版并不僅僅是用在半導(dǎo)體領(lǐng)域，印刷電路版、顯示面板、硬盤(pán)、乃至其它各種微圖形加工的領(lǐng)域里，我們都有機(jī)會(huì)用到掩模版

  半導(dǎo)體綜研

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  05/06 10:35

  掩模光刻

  

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