半導(dǎo)體工藝

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  • 半導(dǎo)體二手設(shè)備的認(rèn)知誤區(qū)
    這個(gè)話(huà)題其實(shí)一直想寫(xiě)一寫(xiě),最近怠于動(dòng)筆,今天得空兒碼幾行文字。 半導(dǎo)體二手設(shè)備其實(shí)是半導(dǎo)體領(lǐng)域一個(gè)非常獨(dú)特的存在,別的行業(yè)雖然也存在二手設(shè)備市場(chǎng),但能夠撐起成熟制程設(shè)備半壁江山的,還真是比較少。雖然二手設(shè)備在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈環(huán)節(jié)中扮演了如此重要的角色,但普遍存在一些認(rèn)知誤區(qū),也導(dǎo)致很多人對(duì)這個(gè)行業(yè)有誤解。 正是因?yàn)橛姓`解,導(dǎo)致相關(guān)公司特別不愿意提自己是二手設(shè)備廠(chǎng)商, “二手” 倆字都羞于啟齒,反倒用一
    半導(dǎo)體二手設(shè)備的認(rèn)知誤區(qū)
  • 什么是SPT技術(shù),SPT技術(shù)位于工藝流程什么位置?
    在半導(dǎo)體工藝中,SPT 通常是指應(yīng)力鄰近技術(shù)(Stress Proximity Technology)。它是一種通過(guò)在柵極周?chē)纬商囟ńY(jié)構(gòu)或沉積特定材料,將應(yīng)力引入到半導(dǎo)體溝道中的工藝技術(shù)。具體介紹如下:
    什么是SPT技術(shù),SPT技術(shù)位于工藝流程什么位置?
  • 在半導(dǎo)體SiGe工藝中,為什么需要分兩步生長(zhǎng)?
    在半導(dǎo)體 SiGe 工藝中,分兩步生長(zhǎng)低摻雜 Ge 層和高摻雜 Ge 層主要基于以下多方面的工藝優(yōu)化需求:晶格常數(shù)差異:Ge的晶格常數(shù)(5.66 ?)比Si(5.43 ?)大約4%,直接在 Si 襯底上生長(zhǎng)高摻雜 Ge 層會(huì)因晶格失配產(chǎn)生高應(yīng)力,導(dǎo)致位錯(cuò)等缺陷。第一步低摻雜 Ge 層作為緩沖層,通過(guò)較低的摻雜濃度和漸變的 Ge 含量(如從 Si 到 SiGe 的過(guò)渡),逐步釋放晶格應(yīng)力,為后續(xù)高摻雜層提供穩(wěn)定的生長(zhǎng)基礎(chǔ)。
    在半導(dǎo)體SiGe工藝中,為什么需要分兩步生長(zhǎng)?
  • 在半導(dǎo)體工藝中,Metal ECP 為什么要洗邊?一般洗多少寬度?
    在半導(dǎo)體制造工藝?yán)?,金屬層的電化學(xué)鍍(ECP)是構(gòu)建芯片內(nèi)部復(fù)雜電路互連的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。而在 ECP 工藝完成后,一項(xiàng)不可或缺的后續(xù)操作便是洗邊。這一操作看似簡(jiǎn)單,實(shí)則對(duì)芯片制造的整體質(zhì)量、性能以及生產(chǎn)效率有著多方面的深刻影響。
    在半導(dǎo)體工藝中,Metal ECP 為什么要洗邊?一般洗多少寬度?

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