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    • █ 倒裝封裝(Flip Chip)
    • █?鍵合
    • █ CSP(芯片級(jí)封裝)
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一文看懂芯片的封裝工藝(先進(jìn)封裝篇1:倒裝封裝)

14小時(shí)前
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之前講了封裝的基礎(chǔ)知識(shí),還有傳統(tǒng)封裝的工藝流程:寫給小白的芯片封裝入門科普、一文看懂芯片的封裝工藝(傳統(tǒng)封裝篇)

今天開始,連續(xù)三篇,小棗君重點(diǎn)講講先進(jìn)封裝的工藝流程。

第1篇,先介紹一下倒裝封裝。

█ 倒裝封裝(Flip Chip)

業(yè)界普遍認(rèn)為,倒裝封裝是傳統(tǒng)封裝和先進(jìn)封裝的分界點(diǎn)。

上期我們提到,芯片封裝發(fā)展的第三階段(1990年代),代表類型是BGA(球形陣列)封裝。早期的BGA封裝,是WB(Wire Bonding,引線) BGA,屬于傳統(tǒng)封裝。

后來(lái),芯片的體積越來(lái)越小,而單顆芯片內(nèi)的焊盤數(shù)量越來(lái)越多(接近或超過(guò)1000個(gè))。傳統(tǒng)的引線封裝,已經(jīng)無(wú)法滿足要求。

于是,采用倒裝技術(shù)替換焊線的FC BGA封裝,就出現(xiàn)了。

所謂“倒裝”,就是在晶粒上創(chuàng)造一些由焊料制成的“凸點(diǎn)”或“球”。然后,把晶粒反轉(zhuǎn)過(guò)來(lái),讓凸點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)基板上的焊盤,直接扣在基板上。

通過(guò)加熱,讓熔融的凸點(diǎn)與基板焊盤相結(jié)合,實(shí)現(xiàn)晶粒與基板的結(jié)合。

WB BGA與FC BGA

我們來(lái)看看具體的工藝流程。

以FC BGA為例。前面減薄、切割、清洗、光檢,和WB BGA(傳統(tǒng)封裝)差不多。

要把晶粒與基板連在一起(后面會(huì)說(shuō),這叫“鍵合”),開始不一樣了。

第一步,是凸點(diǎn)制作(Bumping)。

倒裝封裝包括熱超聲、回流焊和熱壓三種工藝,其凸點(diǎn)分別使用金球、錫球和銅柱。

熱超聲,是在超聲和溫度的共同作用下, 將金凸點(diǎn)“粘”在基板的焊盤上。這種方式,適用于I/O密度較小的芯片。

回流焊,是在錫凸點(diǎn)表面涂覆助焊劑,再通過(guò)熱回流加熱,進(jìn)行焊接。這種方式也適合I/O密度較?。ㄍ裹c(diǎn)間距40-50μm)的芯片。

熱壓(Thermal Compression Bonding,TCB),采用高深寬比、小尺寸的銅柱凸點(diǎn),直接加熱粘結(jié)。這種方式能夠?qū)崿F(xiàn)高密度互聯(lián),適用于I/O密度較大(凸點(diǎn)間距40-10μm)的芯片。

金凸點(diǎn)的成本高。相比之下,銅柱凸點(diǎn)的電性能、散熱性能比較好,制備難度均衡,成本也比較低,所以用得比較多。

電子顯微鏡下的凸點(diǎn)

制作凸點(diǎn)的流程比較復(fù)雜。其實(shí)說(shuō)白了,就是前面晶圓制造時(shí)的那套工藝,例如沉積、光刻、刻蝕等。

沉積包括UBM(Under Bump Metallization,凸點(diǎn)下金屬化層)的沉積和凸點(diǎn)本身的沉積。UBM位于凸點(diǎn)與芯片焊盤(金屬墊,Al pad鋁墊層)之間,起到增強(qiáng)凸點(diǎn)附著力、提高電導(dǎo)率和熱導(dǎo)率的作用。

UBM的沉積,通常采用濺射(Sputtering)、化學(xué)鍍(Electroless)、電鍍(Electroplating)的方式實(shí)現(xiàn)。

凸點(diǎn)本身的沉積,通常采用電鍍、印刷、蒸鍍、植球的方式實(shí)現(xiàn)(前兩者比較常見)。

大致的流程,看下面的示例圖應(yīng)該能懂(不懂的話,可以回顧晶圓制造那一期的內(nèi)容):

比較特別的是,最后多了一個(gè)步驟——“回流”,把錫帽變成了子彈頭形狀。

第二步,是對(duì)準(zhǔn)和貼裝。

簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),就是使用精密的貼裝設(shè)備,將晶粒上的凸點(diǎn)與基板上的焊盤進(jìn)行精確對(duì)準(zhǔn),然后通過(guò)回流焊等工藝,實(shí)現(xiàn)凸點(diǎn)與焊盤的連接。

回流焊的大致過(guò)程:

回流焊流程

先將晶粒(芯片)的凸點(diǎn)沾上助焊劑,或者在基板上加定量的助焊劑。助焊劑的作用,是去除金屬表面氧化物并促進(jìn)焊料流動(dòng)。

然后,用貼片設(shè)備將晶粒精準(zhǔn)地放到基板上。

接下來(lái),將晶粒和基板整體加熱(回流焊),實(shí)現(xiàn)凸點(diǎn)和焊盤之間的良好浸潤(rùn)結(jié)合(溫度和時(shí)長(zhǎng)需要嚴(yán)格控制)。

最后,清洗去除助焊劑,就OK了。

凸點(diǎn)數(shù)量較多、間距較小時(shí),回流焊容易導(dǎo)致出現(xiàn)翹曲和精度問(wèn)題。于是,這個(gè)時(shí)候就可以用熱壓(TCB)工藝。

熱壓流程

前文提到,熱壓(TCB)工藝非常適合更多凸點(diǎn)、更小凸點(diǎn)間距的芯片。它利用高精度相機(jī)完成芯片間的對(duì)準(zhǔn),并通過(guò)控制熱壓頭的壓力與位移接觸基座,施加壓力并加熱,實(shí)現(xiàn)連接。(后續(xù)我們講混合鍵合,會(huì)再提到熱壓。)

第三步,底部填充。

連接之后,大家會(huì)注意到,晶粒和基板之間的區(qū)域是空心結(jié)構(gòu)。(芯片底部的焊球分布區(qū),也叫C4區(qū)域,Controlled Collapse Chip Connection,“可控塌陷芯片連接”。)

為了避免后續(xù)出現(xiàn)偏移、冷焊、橋接短路等質(zhì)量問(wèn)題,需要對(duì)空心部分進(jìn)行填充。

填充和傳統(tǒng)封裝的塑封有點(diǎn)像,使用的是填充膠(Underfill)。不僅能夠固定晶粒,防止移動(dòng)或脫落,還能夠吸收熱應(yīng)力和機(jī)械應(yīng)力,提高封裝的可靠性。

底部填充工藝一般分為三種:毛細(xì)填充(流動(dòng)型)、無(wú)流動(dòng)填充和模壓填充。

一般來(lái)說(shuō),倒裝封裝都是以毛細(xì)填充為主。方法比較簡(jiǎn)單:清洗助焊劑之后,沿著芯片邊緣,注入底部填充膠。底部填充膠借助毛細(xì)作用,會(huì)被吸入芯片和基板的空隙內(nèi),完成填充。

填充之后,還要進(jìn)行固化。固化的溫度和時(shí)間,取決于填充膠的種類和封裝要求。

以上,就是倒裝封裝(凸點(diǎn)工藝)的大致流程。

相比傳統(tǒng)封裝,倒裝封裝的優(yōu)勢(shì)非常明顯:

1、能夠?qū)崿F(xiàn)高密度的I/O電氣連接,有利于減小芯片的體積。
2、凸點(diǎn)連接,相比引線,可靠性也更強(qiáng)。
3、信號(hào)傳輸路徑大大縮短,減少寄生電容電感,提高信號(hào)的完整性。
4、晶粒和基板直接接觸,熱量能夠快速傳導(dǎo)并散發(fā)出去。

凸點(diǎn)(bump)的制造過(guò)程與晶圓制造(前道)過(guò)程非常相似,本身又介于晶圓制造(前道)和封裝測(cè)試(后道)之間。所以,也被稱作“中道”工序。

后面會(huì)提到的TSV和RDL,也是中道工序。

最近這十幾年,先進(jìn)封裝高速發(fā)展,凸點(diǎn)工藝也一直在演進(jìn)。

從球柵陣列焊球(BGA Ball)到倒裝凸點(diǎn)(FC Bump),再到微凸點(diǎn)(μBump),凸點(diǎn)的尺寸在不斷縮小,技術(shù)難度也在不斷升級(jí)。

后續(xù)小棗君要提到的芯片堆疊、還有立體封裝(2.5D/3D),很多都是以凸點(diǎn)工藝為基礎(chǔ)。它的重要性不言而喻,請(qǐng)大家一定要注意。

3D封裝中的微凸點(diǎn)(μBump)

█?鍵合

插播一個(gè)概念——鍵合(Bonding)。

上期小棗君介紹了傳統(tǒng)封裝里的引線封裝。剛才,又介紹了倒裝封裝。

這種將晶圓和晶圓、晶圓和基板“粘貼”在一起的做法,有一個(gè)專門的名字,就是鍵合。

引線封裝,叫引線鍵合。倒裝封裝,叫倒裝鍵合。

除了這兩種鍵合之外,還有:載帶自動(dòng)鍵合、混合鍵合、臨時(shí)鍵合等。

· 載帶自動(dòng)鍵合

載帶自動(dòng)鍵合(Tape Automated Bonding,TAB),是一種將芯片組裝到柔性載帶上的芯片封裝鍵合技術(shù)。

載帶自動(dòng)鍵合與引線鍵合非常類似,主要區(qū)別在于引線鍵合中,芯片的載體是引線框架或者PCB基板。而載帶自動(dòng)鍵合,用的是柔性載帶。

載帶自動(dòng)鍵合

載帶既作為芯片的支撐體,又作為芯片與外圍電路連接的引線。

載帶自動(dòng)鍵合包括以下5個(gè)步驟:

1、制作載帶:載帶其實(shí)就是銅箔材料。將銅箔貼合在聚酰亞胺膠帶上,經(jīng)過(guò)光刻和蝕刻,形成固定的、精細(xì)的導(dǎo)電圖形,并制作定位孔和引線窗口,就變成了載帶。

2、內(nèi)引線鍵合(ILB,Inner Lead Bonding):將預(yù)先形成焊點(diǎn)的芯片精確定位后,采用熱壓或熱超聲方式同時(shí)將所有內(nèi)引線與芯片焊盤連接。

3、對(duì)準(zhǔn)和貼裝:將芯片貼裝在基板上。

4、外引線鍵合(OLB,Outer Lead Bonding):將載帶與基板或PCB對(duì)準(zhǔn),通常采用熱壓方式實(shí)現(xiàn)批量鍵合。

5、注塑保護(hù):這個(gè)和引線鍵合流程差不多,就是形成保護(hù)層。

相比于引線鍵合,載帶自動(dòng)鍵合適合高密度、細(xì)間距的封裝要求,具有不錯(cuò)的電氣性能和散熱性能,適合LCD驅(qū)動(dòng)器等高密度引線連接場(chǎng)合。

在傳統(tǒng)、低成本應(yīng)用中,載帶自動(dòng)鍵合憑借工藝簡(jiǎn)單、技術(shù)成熟的特點(diǎn),仍有一定優(yōu)勢(shì)。但現(xiàn)在都是更高性能、更高密度封裝時(shí)代,載帶自動(dòng)鍵合在應(yīng)用和普及上,肯定還是不如倒裝鍵合。

混合鍵合、臨時(shí)鍵合,這兩個(gè)概念非常重要。后續(xù)講到立體封裝時(shí),小棗君會(huì)詳細(xì)介紹。

█ CSP(芯片級(jí)封裝)

再插播一個(gè)概念——CSP(Chip Scale Package,芯片級(jí)封裝)。

前面幾期里,提到過(guò)CSP,說(shuō)CSP是芯片小型化封裝的一種方式。

CSP是BGA之后開始崛起的。主要原因,就是因?yàn)閿?shù)碼產(chǎn)品小型化、便攜化,對(duì)芯片體積提出了要求。

CSP封裝,錫球間隔及直徑更小,芯片面積與封裝面積之比超過(guò) 1:1.14,已經(jīng)相當(dāng)接近 1:1 的理想情況,約為普通BGA封裝的1/3。

和BGA一樣,CSP也分為WB CSP和FC CSP。

通常來(lái)說(shuō),F(xiàn)C CSP較多應(yīng)用于移動(dòng)設(shè)備(例如手機(jī))的AP、基帶芯片。而FC BGA,較多應(yīng)用于PC、服務(wù)器CPU、GPU等高性能芯片。

這個(gè)知識(shí)點(diǎn)大家知道一下就好,不算重點(diǎn)。

好了,今天先講到這里。

明天是先進(jìn)封裝的第2期,晶圓級(jí)封裝。后天是先進(jìn)封裝的第3期,也是最后一期,2.5D/3D封裝。RDL、TSV/TGV、混合鍵合、臨時(shí)鍵合等關(guān)鍵概念,都會(huì)進(jìn)行詳細(xì)介紹。

敬請(qǐng)期待!

參考文獻(xiàn):1、《芯片制造全工藝流程》,半導(dǎo)體封裝工程師之家;2、《一文讀懂芯片生產(chǎn)流程》,Eleanor羊毛衫;3.、《不得不看的芯片制造全工藝流程》,射頻學(xué)堂;4、《摩爾定律重要方向,先進(jìn)封裝大有可為》,華福證券;5、《什么是芯片封裝中的底部填充膠》,半導(dǎo)體封裝工程師之家;6、《混合鍵合,會(huì)取代TCB嗎?》,半導(dǎo)體行業(yè)觀察;7、《一文了解載帶自動(dòng)焊接(TAB)技術(shù)》,小陳婆婆,學(xué)習(xí)那些事;
8、《先進(jìn)封裝之芯片熱壓鍵合簡(jiǎn)介》,失效分析工程師趙工;9、《技術(shù)發(fā)展引領(lǐng)產(chǎn)業(yè)變革,向高密度封裝時(shí)代邁進(jìn)》,華金證券;10、《先進(jìn)封裝高密度互聯(lián)推動(dòng)鍵合技術(shù)發(fā)展,國(guó)產(chǎn)設(shè)備持續(xù)突破》,東吳證券;11、《算力時(shí)代來(lái)臨,Chiplet 先進(jìn)封裝大放異彩》,民生證券;12、《先進(jìn)封裝設(shè)備深度報(bào)告》,華西證券;13、《芯片熱管理,倒裝芯片封裝“難”在哪?》,道芯IC;14、維基百科、百度百科、各廠商官網(wǎng)。

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通信行業(yè)知名新媒體鮮棗課堂創(chuàng)始人,通信行業(yè)資深專家、行業(yè)分析師、自媒體作者,《智聯(lián)天下:移動(dòng)通信改變中國(guó)》叢書作者。通信行業(yè)13年工作經(jīng)驗(yàn),曾長(zhǎng)期任職于中興通訊股份有限公司,從事2/3/4G及5G相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域方面的研究,曾擔(dān)任中興通訊核心網(wǎng)產(chǎn)品線產(chǎn)品經(jīng)理、能力提升總監(jiān)、中興通訊學(xué)院二級(jí)講師、中興通訊高級(jí)主任工程師,擁有豐富的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)和積累。