EUV光刻機

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極紫外線光刻機是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產(chǎn)。2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV（極紫外線）光刻機，于2019年初交貨。

極紫外線光刻機是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產(chǎn)。2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV（極紫外線）光刻機，于2019年初交貨。收起

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  • ASML EUV光刻之路還能走多遠(yuǎn)？
    雖然近期臺積電高管表示，臺積電接下來的A16/A14制程都不會采用ASML售價高達4億美元的High NA EUV光刻機（具有0.5數(shù)值孔徑），但是英特爾則已經(jīng)決定在其下一代的Intel 14A制程上選擇采用High NA EUV光刻機進行量產(chǎn)。與此同時，為了解決為了的1nm以下制程的制造問題，ASML正在積極的研發(fā)具有0.75NA的Hyper NA EUV光刻機，這也意味著其將面臨更大的技術(shù)挑戰(zhàn)，要知道ASML花了約20年的時間才成功推動標(biāo)準(zhǔn)型EUV光刻機的規(guī)模商用。
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    06/17 09:35
    ASML EUV光刻之路還能走多遠(yuǎn)？
  • 30億EUV光刻機搬入！
    據(jù)半導(dǎo)體業(yè)界3月11日報道，據(jù)悉，三星電子本月初已將ASML生產(chǎn)的首臺高NA?EUV設(shè)備“EXE:5000”引進華城園區(qū)。該設(shè)備價格昂貴，價值達5000億韓元（24.95億元人民幣），而且全球只有ASML公司供應(yīng)。
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  • 日本成功引入首臺ASML EUV光刻機
    近日，芯片制造領(lǐng)域傳來重大消息：Rapidus開始安裝ASML EUV光刻機，成為首家接收EUV光刻設(shè)備的日本半導(dǎo)體公司。這一舉措無疑在全球芯片產(chǎn)業(yè)中掀起了波瀾。
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  • 深度丨EUV光刻機巨頭風(fēng)云爭奪戰(zhàn)
    各大巨頭在未來仍將圍繞High-NA EUV設(shè)備展開激烈競爭，爭相導(dǎo)入或宣布市場進展，預(yù)示著半導(dǎo)體行業(yè)將迎來新一輪技術(shù)革新。目前，英特爾、臺積電、三星、SK海力士等晶圓制造大廠已紛紛對High-NA EUV光刻機表現(xiàn)出強烈的關(guān)注與行動。
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  • 為什么研發(fā)EUV光刻機那么難？
    雖然表面上看，光刻機是半導(dǎo)體制造的工具之一，但它的背后涉及復(fù)雜的多學(xué)科交叉與全球化合作。EUV光刻機依賴于波長僅為13.5納米的極端紫外線（EUV）光源，而這種光源的產(chǎn)生與控制是最大的技術(shù)挑戰(zhàn)之一。你可以把EUV光源想象成一個非常難以控制的“燈泡”，但這個“燈泡”不僅需要在超高真空環(huán)境下工作，還必須產(chǎn)生極其穩(wěn)定和強大的光束。任何微小的不穩(wěn)定都會影響最終的成像效果。
    為什么研發(fā)EUV光刻機那么難？