3nm工藝

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  • 3nm賽道,擠滿了ASIC芯片
    作者:九林 最近,市場(chǎng)關(guān)注的兩家ASIC企業(yè)都發(fā)布了自家的財(cái)報(bào)。 博通2025財(cái)年第一季度財(cái)報(bào)顯示,營(yíng)收149.16億美元,同比增長(zhǎng)25%,凈利潤(rùn)55.03億美元,同比增長(zhǎng)315%。其中,第一季度與AI有關(guān)的收入同比增長(zhǎng)77%至41億美元。 Marvell預(yù)計(jì)第一財(cái)季銷售額約為18.8億美元,同比增長(zhǎng)27%。其中,AI業(yè)務(wù)收入達(dá)7億美元左右,主要是亞馬遜等客戶定制ASIC等產(chǎn)品需求增長(zhǎng)的帶動(dòng)。 A
    3nm賽道,擠滿了ASIC芯片
  • 小米成功流片!國(guó)內(nèi)首款3nm手機(jī)系統(tǒng)級(jí)芯片
    據(jù)北京衛(wèi)視《北京新聞》節(jié)目10月20日?qǐng)?bào)道,北京市經(jīng)濟(jì)和信息化局總經(jīng)濟(jì)師唐建國(guó)對(duì)外透露,小米公司已成功流片國(guó)內(nèi)首款采用3nm工藝的手機(jī)系統(tǒng)級(jí)芯片,這是國(guó)內(nèi)首款采用如此先進(jìn)工藝技術(shù)的手機(jī)芯片。
    小米成功流片!國(guó)內(nèi)首款3nm手機(jī)系統(tǒng)級(jí)芯片
  • 3納米制程芯片為什么需要EUV光刻機(jī)和多重曝光技術(shù)?
    晶圓制造工藝是一個(gè)非常復(fù)雜的過程,特別是在3納米制程中,挑戰(zhàn)會(huì)更加顯著。讓我們一步步來理解EUV(極紫外光刻)多重圖案(Multi-Patterning)技術(shù)在實(shí)現(xiàn)圖案分辨率時(shí)所面臨的挑戰(zhàn)。
  • 臺(tái)積電逆市抬價(jià),客戶反應(yīng)亮了
    最近,新任臺(tái)積電董事長(zhǎng)魏哲家的一段話引起業(yè)界關(guān)注。魏哲家重點(diǎn)提到“要反映臺(tái)積電價(jià)值”,這一說法中沒有“漲價(jià)”兩字,但“反映價(jià)值”這句話引起了人們的想象。在臺(tái)積電的法說會(huì)上,行業(yè)分析師每次都會(huì)提出晶圓代工價(jià)格問題,臺(tái)積電也總是強(qiáng)調(diào)“提供價(jià)值服務(wù)”。
    臺(tái)積電逆市抬價(jià),客戶反應(yīng)亮了
  • GAA器件模型是什么?遇到了哪些挑戰(zhàn)
    3納米工藝節(jié)點(diǎn)中的GAA晶體管帶來了顯著的技術(shù)挑戰(zhàn)。提取電氣特性需要新的方法和工具,以應(yīng)對(duì)其復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)和對(duì)工藝變異的敏感性。同時(shí),新的物理失效模式也需要在設(shè)計(jì)和制造過程中加以重視,以確保晶體管的可靠性和性能。3納米晶圓制造工藝中的“Gate all-around (GAA) transistors”所帶來的新提取要求和物理失效模式是一個(gè)復(fù)雜的問題。
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    01/15 16:46

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