光刻機(jī)

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光刻機(jī)（lithography）又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。

光刻機(jī)（lithography）又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。收起

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  • Agent落地的“光刻機(jī)之問(wèn)”：當(dāng)全行業(yè)緊盯“大腦”，誰(shuí)在打造真正的基石？
    作者｜周一笑 郵箱｜zhouyixiao@pingwest.com 當(dāng)下的AI Agent領(lǐng)域，正上演著一幕“奇特”的景象，一方面，是關(guān)于Agent能力極限的狂熱探討；但另一方面，是當(dāng)這些光鮮的Agent從實(shí)驗(yàn)室走向真實(shí)生產(chǎn)環(huán)境時(shí)的普遍“失速”與“沉寂”。 這之間巨大的落差，源于一個(gè)被行業(yè)集體選擇性忽視的“盲點(diǎn)”：我們癡迷于為Agent打造更聰明的“大腦”，卻忽略了為其提供一個(gè)穩(wěn)定、安全、可靠的“
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  • 光刻技術(shù)，走下 “神壇”
    “光刻將不再那么重要?！边@句話一出便在業(yè)界引起巨大爭(zhēng)議，這句話來(lái)源于英特爾的一位高管。光刻機(jī)，向來(lái)被視為半導(dǎo)體制造的命脈。但近期多家芯片巨頭釋放的信息顯示，未來(lái)光刻技術(shù)可能不再是唯一選擇，即便是很難搶到的High-NA EUV，也多處于“閑置”狀態(tài)。
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  • 電子束光刻機(jī)將用于芯片量產(chǎn)？
    近日，一些媒體報(bào)道了英國(guó)部署電子束光刻機(jī)相關(guān)的新聞，并號(hào)稱(chēng)打破ASML的EUV技術(shù)壟斷。部分報(bào)道甚至號(hào)稱(chēng)這是全球第二臺(tái)電子束光刻機(jī)，能繞過(guò)ASML。實(shí)際上當(dāng)前沒(méi)有任何信息表面該電子束曝光機(jī)可以用于5nm制程的芯片量產(chǎn)的光刻環(huán)節(jié)。在這些媒體的報(bào)道中，英國(guó)似乎已經(jīng)拳打ASML，腳踢EUV了。那事實(shí)真的如此嗎？實(shí)際情況到底如何呢？
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  • 揭秘ASML如何生產(chǎn)“天價(jià)光刻機(jī)”？
    在荷蘭一處大型實(shí)驗(yàn)室的嚴(yán)密大門(mén)之后，一臺(tái)機(jī)器正徹底革新微芯片的制造模式 —— 這便是 ASML 耗時(shí)近十年研發(fā)的高數(shù)值孔徑（High NA）光刻機(jī)。這臺(tái)設(shè)備造價(jià)超 4 億美元，堪稱(chēng)全球最先進(jìn)、最昂貴的芯片制造設(shè)備。
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    作為一個(gè)技術(shù)派CEO，陳立武上臺(tái)后以鐵血手腕頒布了一系列的改革措施，包括近兩萬(wàn)人的裁員計(jì)劃、每個(gè)員工每周必須在辦公室工作四天、精簡(jiǎn)內(nèi)部行政流程以及減少不必要的會(huì)議等，同時(shí)加快推進(jìn)英特爾的技術(shù)研發(fā)進(jìn)度，基本延續(xù)了前代CEO的做法。對(duì)于深陷危機(jī)的英特爾來(lái)說(shuō)，代工業(yè)務(wù)和下一代制程工藝，能否成為翻盤(pán)的機(jī)會(huì)呢？
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