雖然近期臺積電高管表示,臺積電接下來的A16/A14制程都不會采用ASML售價高達4億美元的High NA EUV光刻機(具有0.5數(shù)值孔徑),但是英特爾則已經(jīng)決定在其下一代的Intel 14A制程上選擇采用High NA EUV光刻機進行量產(chǎn)。與此同時,為了解決為了的1nm以下制程的制造問題,ASML正在積極的研發(fā)具有0.75NA的Hyper NA EUV光刻機,這也意味著其將面臨更大的技術挑戰(zhàn),要知道ASML花了約20年的時間才成功推動標準型EUV光刻機的規(guī)模商用。
Christophe Fouquet,ASML現(xiàn)任CEO,一個極其通透的人,一個優(yōu)秀的技術公司領袖,一個看穿半導體產(chǎn)業(yè)規(guī)律的行業(yè)專家。他說,謙遜是領導力第一要素;他說,當你不再為證明自己而戰(zhàn)時,你就獲得了工作上的自由;他說,做決策時要冷靜,你可以根據(jù)自己的呼吸是否還平穩(wěn)來判定自己的情緒;他說現(xiàn)在的人們太聰明,很多人不知道活在當下,enjoy your moment。
近期,全球光刻機大廠ASML在“2024 Investor Day Meeting”(2024投資者日)活動上,對于半導體產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀及未來發(fā)展趨勢進行了分享,剖析了推動半導體設備市場的持續(xù)增長的四大關鍵驅動力:AI服務器市場的持續(xù)增長(對于先進制程的需求)、成熟制程市場的持續(xù)擴張、前端3D集成的趨勢、先進封裝市場的旺盛需求。