現(xiàn)回復熱心讀者,臺積電將CoWoS封裝技術(shù)分為三種類型——CoWoS-S(Silicon Interposer)、CoWoS-R(RDL Interposer)以及CoWoS-L(Local Silicon Interconnect and RDL Interposer),主要是基于以下幾個關(guān)鍵條件和考慮來劃分的:
1. Interposer材料和結(jié)構(gòu)
CoWoS-S (Silicon Interposer): 使用硅中介層作為主要的連接媒介。這種結(jié)構(gòu)通常具有高密度的I/O互連,適合高性能計算和大規(guī)模集成電路的需求。硅中介層的優(yōu)勢在于其精密的制造工藝和優(yōu)越的電性能。
CoWoS-R (RDL Interposer): 使用重新布線層(RDL)中介層。這種類型的封裝主要用于降低成本和適應不同類型的器件連接需求,RDL具有更大的設計靈活性,可以支持更多的芯片連接。
CoWoS-L (Local Silicon Interconnect and RDL Interposer): 結(jié)合局部硅互連和RDL中介層,利用兩者的優(yōu)點以實現(xiàn)更高效的封裝和連接。這種結(jié)構(gòu)適合復雜的系統(tǒng)集成,能夠在單一封裝中實現(xiàn)更復雜的電路設計。
2. 性能需求
高性能需求: CoWoS-S由于使用硅中介層,能夠支持更高的帶寬和更低的延遲,適合高性能計算和數(shù)據(jù)中心應用。
靈活性和成本: CoWoS-R提供了更高的設計靈活性和成本優(yōu)勢,適用于需要不同芯片之間靈活互連的應用場景,如消費電子和部分工業(yè)應用。
綜合需求: CoWoS-L通過結(jié)合局部硅互連和RDL中介層,滿足了性能和成本之間的平衡,適用于需要高性能和靈活連接的應用。
3. 應用場景
CoWoS-S: 主要用于需要極高性能和高密度互連的應用,如高性能計算(HPC)、人工智能(AI)加速器和高端服務器。
CoWoS-R: 適用于需要降低封裝成本并且具有一定性能需求的應用,如消費類電子產(chǎn)品和中端服務器。
CoWoS-L: 適用于需要兼顧性能和成本的應用,如網(wǎng)絡設備、通信基站和某些高端消費電子產(chǎn)品。
4. 技術(shù)成熟度和制造復雜性
CoWoS-S: 由于其制造工藝復雜且對精度要求高,通常只在對性能要求極高且能夠承受較高制造成本的應用中使用。
CoWoS-R: 制造相對簡單,成本較低,適合大規(guī)模生產(chǎn)和應用。
CoWoS-L: 制造復雜度介于CoWoS-S和CoWoS-R之間,能夠?qū)崿F(xiàn)復雜系統(tǒng)集成的需求。
通過以上幾個方面的考慮,臺積電能夠根據(jù)不同客戶和市場需求提供相應的CoWoS封裝技術(shù)類型,以滿足多樣化的應用和性能需求。