襯底

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襯底,分為繪圖襯底,和化工學(xué)襯底兩種。繪圖襯底指的是將圖片或文字充滿整個版面使其為底紋?;W(xué)襯底最常見的為氮化物襯底材料等。

襯底,分為繪圖襯底,和化工學(xué)襯底兩種。繪圖襯底指的是將圖片或文字充滿整個版面使其為底紋。化工學(xué)襯底最常見的為氮化物襯底材料等。收起

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  • 全球硅片襯底生產(chǎn)加工耗材供應(yīng)商統(tǒng)計
    當(dāng)下大硅片行業(yè)的競爭頗為慘烈,其中很大原因之一就是之前幾年全球的產(chǎn)能過度擴張下圖是日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省發(fā)布的日本本土半導(dǎo)體晶圓襯底生產(chǎn)設(shè)備的產(chǎn)值、產(chǎn)量數(shù)據(jù)。由圖可以看到,從2021年開始,生產(chǎn)設(shè)備的出貨量持續(xù)高速增長。由此導(dǎo)致的全球產(chǎn)能增量幅度可見一斑
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  • 為什么CMOS工藝都采用P型襯底(晶圓)呢?
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    晶圓襯底是半導(dǎo)體器件制造過程中的基礎(chǔ)材料之一,通常是一種均勻、高純度的晶體硅片。晶圓襯底作為半導(dǎo)體芯片的載體,提供了一個穩(wěn)定的平臺用于半導(dǎo)體晶片的生長和加工。
  • 襯底和外延片的區(qū)別
    在半導(dǎo)體制造過程中,襯底(substrate)和外延片(epitaxial wafer)是兩個重要的概念。它們在材料結(jié)構(gòu)、制備方法以及應(yīng)用領(lǐng)域等方面存在著明顯的區(qū)別。本文將詳細探討襯底和外延片之間的區(qū)別。

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