芯片制造

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  • 28納米以下先進制程為何離不開HKMG工藝
    在半導(dǎo)體制造的不斷演進中,先進制程的發(fā)展一直是推動行業(yè)進步的關(guān)鍵力量。當(dāng)制程工藝推進到28納米及以下,HKMG(High-K Metal Gate,高介電常數(shù)金屬柵極)技術(shù)成為了不可或缺的存在。 從物理原理角度來看,隨著制程尺寸縮小,傳統(tǒng)材料和技術(shù)面臨嚴峻挑戰(zhàn)。在晶體管中,柵極作為控制電流的關(guān)鍵結(jié)構(gòu),其性能直接影響著芯片的整體表現(xiàn)。當(dāng)制程進入28納米以下,若繼續(xù)使用傳統(tǒng)的二氧化硅(SiO?)作為柵
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  • 晶圓是如何制造出來的?
    接下來這段時間,小棗君會通過一系列文章,專門介紹芯片的制造流程。今天這篇,先講講晶圓制造。
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  • 入職中國半導(dǎo)體行業(yè)頂尖企業(yè)
    在科技浪潮洶涌澎湃的當(dāng)下,半導(dǎo)體行業(yè)作為現(xiàn)代科技的基石,正以前所未有的速度推動著世界的變革與發(fā)展。中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在近年來更是異軍突起,眾多企業(yè)在各個細分領(lǐng)域開疆拓土,取得了令人矚目的成就。無論是芯片設(shè)計領(lǐng)域的創(chuàng)新突破,芯片制造過程中的精益求精,封裝測試環(huán)節(jié)的嚴格把控,材料設(shè)備領(lǐng)域的技術(shù)深耕,還是新興領(lǐng)域的大膽探索,都展現(xiàn)出中國半導(dǎo)體企業(yè)的強大實力與無限潛力。
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