半導(dǎo)體

• wafer清洗失效時間是多少

  圓（wafer）清洗后的失效時間（即清洗后到表面再次出現(xiàn)污染或氧化的時間）取決于多種因素，包括清洗工藝、環(huán)境條件、晶圓表面材料以及后續(xù)處理方式等。以下是一個簡要的分析： 1. 典型失效時間范圍 常溫常壓下：在潔凈的干燥環(huán)境中，清洗后的晶圓表面可能保持數(shù)小時到數(shù)天的潔凈度，具體取決于環(huán)境濕度、顆粒濃度和表面吸附特性。 高濕度環(huán)境：如果環(huán)境濕度較高（如>50%），晶圓表面可能在幾小時內(nèi)吸附水分或

  蘇州芯矽電子科技有限公司

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  06/24 11:05

  半導(dǎo)體 半導(dǎo)體照明
• 上海行業(yè)龍頭再收購，瞄準芯片資產(chǎn)！

  6月19日，康達新材公告稱，公司當(dāng)日與中科華微及其股東遼寧四和微、趙峰、孫麗娜簽署了《投資合作意向協(xié)議》，擬以現(xiàn)金方式收購中科華微不低于51%的股權(quán)，實現(xiàn)對標(biāo)的公司的控股。標(biāo)的公司100%股權(quán)的整體估值暫未定，最終以評估報告和正式簽署的收購協(xié)議為準。

  張通社

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  06/23 13:41

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