刻蝕設(shè)備

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刻蝕設(shè)備的發(fā)展和光刻技術(shù),互連技術(shù)密切相關(guān)。High K / Low K材料,銅互連,Metal Gate,double Pattern等技術(shù)的發(fā)展都對(duì)刻蝕設(shè)備提出了新的需求·

刻蝕設(shè)備的發(fā)展和光刻技術(shù),互連技術(shù)密切相關(guān)。High K / Low K材料,銅互連,Metal Gate,double Pattern等技術(shù)的發(fā)展都對(duì)刻蝕設(shè)備提出了新的需求·收起

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    據(jù)可靠業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電南京廠已向中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司下單采購(gòu)?10 臺(tái) 5nm 介質(zhì)刻蝕機(jī),這些設(shè)備預(yù)計(jì)于 2026 年第一季度正式交付。 作為全球最大的晶圓代工廠商,臺(tái)積電在芯片制造領(lǐng)域一直處于行業(yè)領(lǐng)先地位,對(duì)設(shè)備供應(yīng)商的技術(shù)實(shí)力、產(chǎn)品質(zhì)量與穩(wěn)定性有著極為嚴(yán)苛的要求。中微公司此次能夠成功打入臺(tái)積電 5nm 制程供應(yīng)鏈,背后是多年來(lái)持續(xù)不斷的技術(shù)創(chuàng)新與研發(fā)投入。早在 2018 年
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