芯耀
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以下是關于16NM芯片工藝和制程中用到的光刻機相關的詳細科普文章。
1.16NM芯片工藝的實現(xiàn)時間
16NM芯片工藝是在2014年實現(xiàn)的。它是指加工芯片平面上的最小線寬（距離）為16納米，在這個工藝下，集成電路可在同樣大小的芯片面積內容納更多的晶體管，從而實現(xiàn)更高的性能、更低的功耗和更小的體積。具體實現(xiàn)方式需要依賴光刻機等設備完成。
2.16NM芯片用的光刻機
16NM芯片制造所需的光刻機種類相對比較多，主要包括ASML公司生產的i-line、KrF和ArF等光刻機系列，以及日本尼康、佳能（Canon）等公司的光刻機。
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