無(wú)圖形晶圓的顆粒檢測(cè)原理

知識(shí)星球（星球名：芯片制造與封測(cè)技術(shù)社區(qū)，星球號(hào)：63559049）里的學(xué)員問(wèn)：在裸晶圓上，顆粒的檢測(cè)是如何實(shí)現(xiàn)的？比較經(jīng)典的顆粒檢測(cè)機(jī)臺(tái)有哪些？

顆粒檢測(cè)用什么光源？

激光。激光束掃描旋轉(zhuǎn)中的晶圓表面，在無(wú)顆粒的光滑表面上，激光束發(fā)生鏡面反射，當(dāng)激光遇到顆粒時(shí)，部分入射光線會(huì)向各個(gè)方向散射。在暗場(chǎng)照明中，散射光可以直接檢測(cè)；在明場(chǎng)照明中，可以通過(guò)檢測(cè)鏡面反射光強(qiáng)度的變化來(lái)表示。

明場(chǎng)與暗場(chǎng)各用來(lái)檢測(cè)什么？

明場(chǎng)的光源垂直地照射到晶圓表面，暗場(chǎng)光源以一定的傾斜角度照射晶圓表面。暗場(chǎng)的視野一般是黑色的，只有表面有顆粒時(shí)，才看到發(fā)光體。明場(chǎng)適用于檢測(cè)表面較光滑，顆粒較大的晶圓，暗場(chǎng)適用于檢測(cè)超微小的顆粒。

檢測(cè)機(jī)臺(tái)如何記錄光強(qiáng)？

使用PMT或CCD來(lái)記錄光強(qiáng)。PMT是光電倍增管。

比較經(jīng)典的檢測(cè)機(jī)臺(tái)型號(hào)？

KLA Surfscan? SP2

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