11月13日,國產(chǎn)碳化硅襯底大廠天岳先進在2024德國慕尼黑半導體展覽會(Semicon Europe 2024)上發(fā)布了業(yè)界首款300mm(12英寸)碳化硅襯底產(chǎn)品,標志著其正式邁入超大尺寸碳化硅襯底的新時代。
天岳先進表示,300mm碳化硅襯底材料,能夠進一步擴大單片晶圓上可用于芯片制造的面積,大幅提升合格芯片產(chǎn)量。在同等生產(chǎn)條件下,顯著提升產(chǎn)量,降低單位成本,進一步提升經(jīng)濟效益,為碳化硅材料的更大規(guī)模應用提供可能。
碳化硅襯底現(xiàn)狀:12英寸開始發(fā)芽,8英寸加速滲透
全球碳化硅襯底市場競爭激烈,Wolfspeed、英飛凌、ST、安森美等國際企業(yè)占據(jù)產(chǎn)業(yè)主導地位。從國內(nèi)情況來看,目前,天岳先進掌握行業(yè)最大尺寸12英寸碳化硅襯底的生產(chǎn)技術,并已實現(xiàn)8英寸碳化硅襯底的穩(wěn)定量產(chǎn)。除了天岳先進,還有爍科晶體、同光晶體、天科合達等也具備8英寸碳化硅襯底生產(chǎn)能力,另外一些其他企業(yè)也在碳化硅襯底領域有所布局和研發(fā),但可能尚未實現(xiàn)8英寸或更大尺寸襯底的量產(chǎn)。
業(yè)界認為, 8英寸碳化硅襯底將是邊際成本遞減的拐點尺寸,未來8英寸將是碳化硅襯底的主流尺寸,目前8英寸碳化硅僅實現(xiàn)了小批量供貨。根據(jù)TrendForce集邦咨詢研究此前數(shù)據(jù),8英寸的產(chǎn)品市占率不到2%,并預測2026年市場份額將成長到15%左右。
近期,國內(nèi)8英寸碳化硅市場傳來消息:天科合達第三代半導體碳化硅襯底產(chǎn)業(yè)化基地建設二期項目開工;晶升股份研發(fā)出8英寸電阻法碳化硅單晶爐。
11月12日,天科合達第三代半導體碳化硅襯底產(chǎn)業(yè)化基地建設二期項目開工。該公司擬購置長晶及附屬、晶體加工、晶片加工等工藝設備,新建6-8英寸碳化硅襯底生產(chǎn)線及研發(fā)中心,以及相關配套設施。據(jù)介紹,項目用于擴大公司碳化硅晶體與晶片產(chǎn)能,同時建設研發(fā)中心以對生產(chǎn)工藝和參數(shù)持續(xù)進行優(yōu)化和完善,投產(chǎn)后將實現(xiàn)年產(chǎn)約37.1萬片導電型碳化硅襯底,其中6英寸導電型碳化硅襯底23.6萬片,8英寸導電型碳化硅襯底13.5萬片。
晶升股份成功研發(fā)了8英寸電阻法碳化硅單晶爐,解決了碳化硅“盲盒生長”的瓶頸,實現(xiàn)了晶體生長過程的可視化和可監(jiān)測。晶升股份的8英寸碳化硅長晶設備已完成驗證,并開啟了批量交付進程。該公司正在積極布局碳化硅外延和切割設備的開發(fā)工作,以進一步拓展產(chǎn)品線。
碳化硅襯底目標,邁向超大尺寸
隨著新能源汽車、光伏儲能等清潔能源、5G通訊及高壓智能電網(wǎng)等產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,滿足高功率、高電壓、高頻率等工作條件的碳化硅基器件的需求也突破式增長,其中上游關鍵材料碳化硅襯底顯得尤為重要。業(yè)界指出,碳化硅襯底的尺寸越大,其面積也越大,意味著可以在單個襯底上制造更多的芯片,從而提高生產(chǎn)效率。同時,大尺寸襯底可減少邊緣浪費,有助于降低單位芯片的成本。
從碳化硅襯底尺寸上看,4英寸襯底主要用于制造氮化鎵射頻器件等;6英寸襯底是目前導電型碳化硅市場的主流產(chǎn)品規(guī)格;8英寸襯底方面,Wolfspeed、英飛凌等行業(yè)龍頭公司已成功研發(fā)并建設8英寸產(chǎn)品生產(chǎn)線。與6英寸襯底相比,8英寸襯底可以提供更高的能效和更低的成本。12英寸襯底方面,目前尚未廣泛應用,業(yè)界稱,未來隨著技術的不斷進步和成本的降低,12英寸有望成為碳化硅襯底的重要發(fā)展方向。
碳化硅襯底正在不斷向大尺寸的方向發(fā)展,不過大尺寸襯底的生產(chǎn)技術難度更高,需要先進的生產(chǎn)設備和技術支持,這也意味著需要更多的研發(fā)投入和生產(chǎn)成本。因此,企業(yè)在擴大產(chǎn)能和提高產(chǎn)品質(zhì)量方面仍需不斷努力。
隨著碳化硅材料在新能源汽車、光伏、5G通信等領域的廣泛應用,市場需求也將不斷增長,為碳化硅襯底企業(yè)提供了廣闊的發(fā)展空間。