為什么高端刻蝕設(shè)備都選用遠程等離子體源（RPS）？

知識星球（星球名：芯片制造與封測技術(shù)社區(qū)，星球號：63559049）里的學員問：遠程等離子體源（RPS）是什么？有什么優(yōu)勢？許多高端，先進的刻蝕，清洗機臺都會配置遠程等離子體源（RPS）。如Applied Materials Centura，Lam Research Kiyo都會用到RPS。RPS的原理是什么？

如上圖，

1. Gas

氣體：，輸入的氣體源，通常是惰性氣體或工藝氣體，用于生成等離子體。

2. Remote Plasma Source

遠程等離子體源，這是生成等離子體的區(qū)域，等離子體在這個遠離主處理腔的區(qū)域內(nèi)生成。等離子體源可以通過射頻或微波來激發(fā)氣體，形成等離子體。

3. Remote Transport Region

遠程傳輸區(qū)域，這是等離子體從遠程源傳輸?shù)街魈幚砬坏耐ǖ?。等離子體中的活性粒子在這個區(qū)域內(nèi)被輸送到主處理腔，而高能離子被濾除，以減少對處理表面的物理損傷。

4. Gas Baffle

氣體擋板，它可以幫助均勻分布等離子體中的活性種，并進一步減少高能離子的影響，確保主處理腔內(nèi)的刻蝕或清洗過程均勻且可控。

5. Main Process Chamber

主工藝腔,這是實際進行刻蝕、沉積或清洗的區(qū)域。經(jīng)過氣體擋板處理后的等離子體活性種在這個腔體內(nèi)與晶圓表面反應，完成預定的工藝步驟。

6. Vacuum Pump

真空泵,用于維持處理腔內(nèi)的低壓環(huán)境。真空泵排出反應副產(chǎn)物和殘余氣體.RPS的優(yōu)勢？

1，由于高能離子在到達主處理腔前已被濾除，減少了對材料表面的物理損傷。2，具有高選擇性，適用于復雜結(jié)構(gòu)。3，提高工藝均勻性。