在半導體制造領域,光刻工藝可以說是所有制造環(huán)節(jié)里最復雜的一道了。由此,無論是光刻機還是光刻膠都是大家關注的焦點,甚至在網(wǎng)絡上也成為了熱門話題不過相對而言,似乎光刻掩模版相關的話題熱度就少了很多。其實這個領域也并不簡單,在光刻掩模版及其上游供應鏈里也存在著大量的機會,值得行業(yè)關注
最近看到有人在微信群里討論相關話題,我便想起自己電腦正好有相關供應商的數(shù)據(jù),便順手整理出來供大家參考這個表格里除了掩模版本身,也同時收錄了其上游材料和配套產(chǎn)品的信息,供大家一并參考另外,目前我對掩模版(PhotoMask)的分類是按照應用領域進行區(qū)分的。如果按照技術路徑區(qū)分,掩模版還可以分成Binary、Phase Shift、EUV等多種類型。限于篇幅,我在這篇文章里就不展開細聊了我的線上課程里后續(xù)會安排一節(jié)光刻技術的課程,我爭取在這堂課里把光刻工藝、光刻機、光刻膠以及掩模版的基本原理和相關行業(yè)知識都講清楚歡迎有興趣的朋友屆時報名,參與線上交流。謝謝
最后還是給我的線上課程帶一下貨:10月31號,我會和大家討論一下半導體制造的一些基本概念。按照傳統(tǒng),每次課上第一部分,我會仔細和大家講一下半導體市場的景氣度以及后市預測
有興趣的朋友,務必報名參加討論。期待你的加入,謝謝