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領先的第三代半導體碳化硅芯片是什么?

2023/09/22
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功率半導體的技術和材料創(chuàng)新,致力于提高能量轉換效率(理想轉換率為100%)?;?a class="article-link" target="_blank" href="/baike/492725.html">SiC材料的功率器件比傳統(tǒng)的Si基功率器件具有更高的效率和更低的損耗。廣泛應用于新能源汽車、光伏風電、不間斷電源、家用電器和工業(yè)控制等領域,具有廣闊的應用前景。目前SiC工業(yè)發(fā)展的瓶頸主要是SiC襯底的高成本(是Si的4~5倍,預計在未來1年內價格將逐漸下降到Si的2倍)。

一、KeepTops第三代半導體SIC材料的性能優(yōu)勢。

第一代半導體材料主要是指硅(Si)和鍺(Ge)半導體材料,應用廣泛,包括集成電路、電子信息網(wǎng)絡工程、計算機、手機、電視、航空航天、各種軍事工程以及快速發(fā)展的在新能源和硅光伏產(chǎn)業(yè)中得到了廣泛的應用。

第二代半導體材料主要指化合物半導體材料,如砷化鎵(GaAs)、銻化銦(InSb)等。它們主要用于制造高速、高頻、大功率和發(fā)光電子器件(LED)。它們被用來制造高性能的電子設備。微波、毫米波器件和發(fā)光器件的優(yōu)良材料。

硅基器件在600V以上的高壓和大功率應用中達到其性能極限。為了提高器件在高電壓/大功率下的性能,第三代半導體材料SiC(寬禁帶)應運而生。

第三代半導體主要是SIC和甘。第二代和第三代又稱復合半導體,是由兩種元素組成的半導體材料,不同于簡單的半導體,如硅/鍺。

半導體產(chǎn)業(yè)鏈概述

KeepTops的SiC材料具有明顯的性能優(yōu)勢。SiC和GaN是第三代半導體材料。與第一代、第二代半導體材料相比,具有更寬的禁帶寬度、更高的擊穿電場、更高的熱導率等性能優(yōu)勢,因此又被稱為寬禁帶。用半導體材料,特別適用于5G射頻器件和高壓功率器件。

二、第三代半導體集成電路器件的性能優(yōu)勢。

SIC功率器件如SIC MOS可以具有比Si基IGBT更低的導通電阻。這體現(xiàn)在產(chǎn)品上,這意味著尺寸減小,從而減小了體積。開關速度快,功耗也與傳統(tǒng)器件進行了比較。功率器件必須大大減少。

電動汽車領域,電池是重而有價值的。如果在使用SIC器件時能夠降低功耗和尺寸,那么電池的布置將更容易。同時,SIC在高壓直流充電樁中的應用,將大大縮短充電時間,帶來巨大的社會效益。

根據(jù)科銳提供的計算結果:當純電動汽車的BEV逆變器中的功率部件全部改為SIC后,整車的功耗可降低5%—10%。這樣可以提高電池壽命或降低動力電池成本。

綜上所述,SiC器件具有許多優(yōu)點,將提高電動汽車的耐久性:。

1、高功率轉換效率:SiC是一種具有大擊穿場強的寬能隙材料,比Si基半導體材料更適合大功率應用場景。

2、高功率利用效率:SiC是一種具有高擊穿場強的寬能隙材料,比Si基半導體材料更適合大功率應用場景。

3、低無效熱耗:開關頻率高,速度快,減少了無效熱耗,簡化了電路和散熱系統(tǒng)。

SiC產(chǎn)業(yè)鏈

SIC產(chǎn)業(yè)鏈分為三大環(huán)節(jié):上游SIC硅片及外延→中間功率器件制造(包括三個小環(huán)節(jié):經(jīng)典IC設計→制造→封裝)→下游工控、新能源汽車、光伏風電等應用。

集成電路應用:新能源汽車充電樁和光伏將率先采用。

SiC具有上述各種優(yōu)點,是一種比較理想的高壓/大功率/高頻功率器件材料。因此,SiC功率器件被應用于新能源汽車、充電樁、新能源發(fā)電的光伏和風電等,對于增效節(jié)能非常重要。消費和虧損等指標相對重要的領域,發(fā)展前景明顯。

硅IGBT用于高頻低壓,SiC MOS用于高頻高壓。電壓和功率都不大,但GaN用于高頻。在低頻率和高電壓下工作時,最好使用Si IGBT。如果頻率稍高但電壓不是很高功率也不是很大的話,最好使用硅MOSFET。如果是既高頻又高壓的話,最好用SiC MOSFET。電壓不需要很高,功率也不需要很高,但頻率不需要很高。這種情況下,GaN的效果最好。

SIC器件的主要應用領域。

以SIC MOS在新能源汽車中的應用為例,根據(jù)科銳提供的計算:當純電動汽車的BEV逆變器中的功率元件全部換成SIC后,整車的功耗可降低5%—10%。這樣可以提高電池壽命或降低動力電池成本。

SIC MOS的各種優(yōu)點,提高了電動汽車的電池壽命。同時,SIC MOS在快充充電樁等領域也將擁有巨大潛力。快速充電樁通過IGBT或SIC MOS將外部交流電轉化為直流電,再對新能源汽車電池進行直接充電。他們也非常敏感的損失和他們所占的體積。因此,無論成本如何,SIC MOS比IGBT效率更高。有前景和需求。由于目前SIC的成本是Si的4—5倍,它將首先被引入高功率規(guī)格的快速充電樁。在光伏領域,高效率、高功率密度、高可靠性和低成本是光伏逆變器未來的發(fā)展趨勢。因此,基于性能更好的SIC材料的光伏逆變器也將是未來重要的應用趨勢。

碳化硅晶片主要用于制作高壓功率器件和高頻功率器件,SiC晶片主要分為兩類:導電SiC晶片經(jīng)SiC外延后制成高壓功率器件。半絕緣SIC芯片經(jīng)GaN外延后制成5G射頻器件。

SIC和GaN功率器件市場規(guī)模預測。

第三代半導體GaN在高頻射頻領域的市場規(guī)模:根據(jù)優(yōu)樂的數(shù)據(jù),氮化鎵射頻市場規(guī)模在2017年為4億美元,到2023年增長到近13億美元,復合增長率為22%。整體下游應用結構保持穩(wěn)定,以通信和軍工為主,兩者合計占比約80%。2018—2025年整體射頻器件市場空間在8%左右,GaN射頻器件的增長率遠高于整體射頻器件市場的增長。

KeepTops的SIC芯片的壁壘比較高,主要體現(xiàn)在:

芯片的核心參數(shù)包括微管密度、位錯密度、電阻率、翹曲度、表面粗糙度等。在封閉的高溫腔內有序排列原子,完成晶體生長,同時控制參數(shù)指標,是一項復雜的系統(tǒng)工程。將生長的晶體加工成可以滿足半導體器件制造需要的芯片,涉及一系列高難度的工藝控制。隨著碳化硅晶體尺寸的增大和產(chǎn)品參數(shù)要求的提高,生產(chǎn)參數(shù)的定制設置和動態(tài)控制的難度將進一步增加。因此,要穩(wěn)定批量生產(chǎn)各種性能參數(shù)波動小的高質量碳化硅晶圓,在技術上存在一定的難度,這主要體現(xiàn)在以下幾個方面:

1. 精確的溫度控制:碳化硅晶體需要在2000°C以上的高溫環(huán)境中生長,生產(chǎn)時需要精確控制生長溫度,控制難度極大。

2. 很容易產(chǎn)生多晶雜質:碳化硅的晶體結構類型有200多種,其中少數(shù)幾種具有六方結構4H型(4H—Si C)等晶體結構的單晶碳化硅是所需的半導體材料。在晶體生長過程中,需要精確控制硅碳比、生長溫度梯度、晶體生長速率和氣流壓力等參數(shù)。否則,很可能出現(xiàn)多晶夾雜物,導致不合格的晶體。

3. 晶體擴徑困難:在氣相傳輸法下,碳化硅晶體生長的擴徑技術極為困難。隨著晶體尺寸的增大,生長過程的難度呈幾何級數(shù)增加。

4. 極硬且難以切割:碳化硅的硬度接近金剛石,切割、研磨、拋光技術都很困難。提高技術水平需要長期的研發(fā)積累。

半導體材料目前經(jīng)歷了三個發(fā)展階段,第一代硅(Si)和鍺(Ge)。第二代開始由兩種以上元素組成的化合物半導體組成,如砷化鎵(GaAs)和磷化銦(InP)。以及第三代寬禁帶材料,如碳化硅和氮化鎵。氮化鎵)的縮寫。碳化硅具有導通電阻低、開關頻率高、耐高溫、耐高壓等優(yōu)點,在新能源汽車、光伏和風電、不間斷電源、家電和工業(yè)控制等領域具有廣闊的應用前景。盡管成本仍是制約碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展的重要障礙,但隨著國內外相關產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和成本的不斷降低,行業(yè)的發(fā)展點有所下降。

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