光刻掩膜版用什么藥液來洗？

知識星球（星球名：芯片制造與封測技術社區(qū)，星球號：63559049）里的學員問：光罩臟了，該如何清洗，洗的頻率如何？用了什么原理？

掩膜版（光罩）為什么會臟？

以投影式光刻機與接觸式光刻機為例，關于投影式與接觸式光刻機見之前的文章：《什么是接觸式/接近式/投影式/步進式光刻機？》

投影式光刻機中的掩膜版與晶圓之間雖沒有直接接觸，但光刻膠等揮發(fā)并凝聚在掩膜版表面，導致掩膜版被污染。

接觸式光刻機中掩膜版與晶圓接觸，而晶圓表面涂的有光刻膠，每次接觸后都會有少量光刻膠殘留，隨著使用次數(shù)增加，掩膜版的污染會變得更加嚴重。

掩膜版變臟對光刻工藝的影響？

掩膜版上的污染物會導致光通過掩膜版時發(fā)生衍射或遮擋，使得晶圓上的圖形失真，造成缺陷。

掩膜版用什么溶液清洗？

如果不是特別臟，可以用丙酮，IPA進行清洗。

如果比較臟，可以用H2SO4+H2O2進行強力清洗，H2SO4+H2O2清洗去除有機物效果很好。

用什么機臺來洗？

有專門的掩膜版清洗機，國內(nèi)的濕法設備大廠都有售，設備難度不是很高。

掩模版清洗頻率？

根據(jù)不同的晶圓廠的要求有所不同，一般一周會做一次大清洗，有的會在一批產(chǎn)品做完光刻后，對掩膜版做一次小清洗。

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